i-Wavefront Technology社のマスクレスリソグラフィ装置が日本上陸！

株式会社光響が、シンガポールに本拠を置くi-Wavefront Technology社の先進的なマスクレスリソグラフィ装置「BEAMシリーズ」の取り扱いを開始しました。この装置は、フォトマスクを必要とせずに高精度な露光パターンを直接形成できる特長を持ちます。
その利点から、MEMS（Micro-Electro-Mechanical Systems）、マイクロ光学素子、バイオチップ、MicroLEDの開発など、さまざまな分野での応用が期待されています。

BEAMシリーズの特長

「BEAMシリーズ」は、特に「BEAM Mk2」と「BEAM XL Mk2」が注目されています。これらのモデルは以下のような特長を備えています：

- 最小ライン幅：0.8 µm
- 最小ピッチ：1.6 µm
- 露光時間：1フィールドあたり2秒未満
- 高精細描画：405 nmのUVレーザー使用
- 自動フォーカス機能：非接触での微細調整が可能
- マルチレイヤー整合機能：異なる層の調整が容易

この装置は、研究開発用途において特に威力を発揮します。ソフトウェアはGDS、TIFF、PNG、KLayoutなどのフォーマットに対応しており、多様なニーズに応えられる柔軟性を有しています。

新しい技術の可能性

近年の技術革新により、微細構造の形成はますます重要になっています。特に、精密機器や医療機器の開発においては、高い精度が求められるため、i-Wavefront Technology社の「BEAMシリーズ」はそのニーズに応えるための有力なツールとなるでしょう。

この製品を用いることで、試作品の製作やカスタムデバイスの開発が効率よく行えるようになるため、研究者や技術者にとって大変喜ばしい情報と言えます。